هفته نامه اطلاع رسانی اختراعات منتشر شده در سازمان جهانی مالکیت فکری
invbazaar.com

سالهفتهIDTitleApplNoIPCApplicantSubgroupزیر گروهرشته شرحDescription
202603WO/2026/011385THROTTLE VALVE POSITION ENDPOINT CONTROL WITHIN A DEPOSITION PROCESSCN2024/104967C23C 16/455APPLIED MATERIALS, INC.CHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/011763PVD COATING PROCESSING DEVICE AND METHOD FOR CEMENTED CARBIDE CUTTING TOOLCN2025/076752C23C 14/32TAIZHOU PRADI COATING CO., LTD.CHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/011839EFFICIENT AND ENVIRONMENTALLY FRIENDLY ALUMINUM PLATING MACHINE DEVICE HAVING WASTE HEAT RECYCLING FUNCTIONCN2025/084817C23C 2/00SHANGHAI RUITU NEW MATERIALS TECHNOLOGY CO. LTD.CHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/011979VACUUM CHAMBER AND SOLAR CELL PROCESSING DEVICECN2025/096207C23C 16/50SUZHOU MAXWELL TECHNOLOGIES CO., LTD.CHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/012119SEMICONDUCTOR PROCESS CHAMBER AND SEMICONDUCTOR PROCESS APPARATUSCN2025/103335C23C 14/02BEIJING NAURA MICROELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD.CHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/012289PROCESS FOR TREATING A METAL SUBSTRATE AND TREATED METAL OBTAINED BY THE SAMECN2025/107122C23C 22/53SPECIALTY OPERATIONS FRANCECHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/012381COATING APPARATUS, COATING METHOD, FILM LAYER AND DEVICECN2025/107633C23C 16/44JIANGSU FAVORED NANOTECHNOLOGY CO., LTD.CHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/012413PRE-COATED STEEL PLATE, LASER TAILOR-WELDED MEMBER AND HOT-STAMPED MEMBERCN2025/107806C23C 26/00JIANGSU EASYFORMING CARBODY TECHNOLOGY CO., LTD.CHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/012525METHOD FOR CONTROLLING FLOW RATIO BETWEEN INNER AND OUTER CAVITIES OF MOCVD APPARATUSCN2025/122763C23C 16/52SUZHOU CASINSTRUMENTS SEMICONDUCTOR MATERIAL CO., LTD.CHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/012574A METHOD OF PRODUCING METAL COMPOUNDS FOR COATING APPLICATIONSEP2024/069365C23C 18/12CERES POWER LIMITEDCHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/012718METHOD AND APPARATUS FOR DEPOSITING A MATERIAL ON A SUBSTRATE BY MAGNETRON SPUTTERINGEP2025/067511C23C 14/16FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.CHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/013697COATED ELECTROMAGNETIC INTERFERENCE (EMI) SHIELDING MESH, METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND APPLICATIONS THEREOFIN2025/051009C23C 18/00COUNCIL OF SCIENTIFIC & INDUSTRIAL RESEARCHCHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/014048METHOD FOR PRODUCING GRAIN-ORIENTED ELECTRICAL STEEL SHEET AND METHOD FOR EVALUATING INSULATING FILM TREATMENT SOLUTIONJP2025/017640C23C 22/00JFE STEEL CORPORATIONCHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/014185VAPOR DEPOSITION MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICEJP2025/022098C23C 14/04TOPPAN HOLDINGS INC.CHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/014198MAGNETRON SPUTTERING DEVICEJP2025/022241C23C 14/34SHIBAURA MACHINE CO., LTD.CHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/014281METHOD AND APPARATUS FOR FORMING METAL NITRIDE FILM CONTAINING OXYGENJP2025/023334C23C 16/455TOKYO ELECTRON LIMITEDCHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/014514OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, OXIDE FILM, THIN-FILM TRANSISTOR, AND ELECTRONIC DEVICEJP2025/024833C23C 14/34IDEMITSU KOSAN CO.,LTD.CHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/014791POWDER COATING APPARATUS HAVING PUMPING PORTKR2025/009302C23C 16/44ALPES INC.CHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/015056A METHOD FOR SURFACE TREATMENT OF A STEEL BELTSE2025/050585C23C 22/62IPCO SWEDEN ABCHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/015359SELECTIVE ETCHING OF SILICON NITRIDE DIELECTRICS WITH MICROWAVE OXIDATIONUS2025/036315C23C 14/00APPLIED MATERIALS, INC.CHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/015466METAL DEPOSITION SYSTEMUS2025/036680C23C 4/131FLUENT METAL INC.CHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/015585THIN FACEPLATE DESIGN FOR USE IN A PROCESSING CHAMBERUS2025/036890C23C 16/455APPLIED MATERIALS, INC.CHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی
202603WO/2026/015604SYSTEMS AND METHODS FOR REACTOR APPARATUS CONTROL DURING SEMICONDUCTOR WAFER PROCESSESUS2025/036928C23C 16/02GLOBALWAFERS CO., LTD.CHEMISTRY; METALLURGYعلم شیمی؛ متالورژیمتالوژی